Veeco推出TurboDisc® K465i™ ，一款用于生產高亮度LED（HB LED）的氮化鎵(GaN) 金屬有機化學氣相沉淀(MOCVD)設備，日前經過LED產業內的Veeco 用戶試用后， K465i 很快獲得量產認可，該公司已經接到了亞太區域多個LED 用戶的訂單。

　　Veeco指出，這次的新產品TurboDisc K465i 以Veeco 久經考驗的K 家族平臺為基礎，結合業界最高生產效率，在5nm bin誤差范圍內，同級最優LED的良品率接近90% ，大幅提高中bin率。 TurboDisc K465i 采用完全自動化運作，例行維護后在很短的時間內即可繼續生產動作，增加生產效率。在同類產品競爭中，不僅生產效率最高，還能節約大量成本。

　　TurboDisc K465i 設計：均勻性和可重復性

　　TurboDisc　K465i GaN MOCVD 系統裝置的核心，是Veeco正在申請專利的Uniform FlowFlange 技術。它的設計是用來產生能均勻地流過LED外延片的烷基和氫化物氣體的均勻氣流型態，該設備打造出來的LED芯片可獲得卓越的均勻性和可重復性，K465 i也采用了Veeco 最先進的反應爐技術。 FlowFlange 的簡化設計提供了快速制程優化的輕松除錯功能，適用外延片大小達8 英寸，同時該設備維護后的快速復產能力也保證了LED產業界最高的生產效率。

（編輯:FJ）