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深度對比半導體照明三條主要技術路線

2016-02-22 作者: 來源:廣東LED 瀏覽量: 網友評論: 0

摘要: 在LED的制備過程中,上游的襯底材料是決定LED顏色、亮度、壽命等性能指標的主要因素。襯底材料表面的粗糙度、熱膨脹系數、熱傳導系數、極性的影響、表面的加工要求以及與外延材料間晶格間是否匹配,這些因素與高亮度LED的發光效率與穩定性密切相關。

  碳化硅(SiC)襯底

  SiC具有優良的熱學、力學、化學和電學性質,不但是制作高溫、高頻、大功率電子器件的最佳材料之一,而且可以用作基于GaN的藍色發光二極管的襯底材料,打破了藍寶石一統天下的局面,尤其在路燈和室外照明領域具有巨大的市場潛力。在半導體領域最常用的SiC是4H-SiC 和6H-SiC 兩種。

  碳化硅與藍寶石相比,在結構上,藍寶石不是半導體而是絕緣體,它只能做單面電極;碳化硅是導電的半導體,它可以做垂直結構。碳化硅襯底的導熱性能要比藍寶石高10倍以上;藍寶石本身是熱的不良導體,并且在制造器件時底部需要使用銀膠固晶,銀膠的傳熱性能也很差。而使用碳化硅襯底的芯片電極為L型,兩個電極分布在器件的表面和底部,所產生的熱量可以通過電極直接導出;同時這種襯底不需要電流擴散層,因此光不會被電流擴散層的材料吸收,這樣又提高了出光效率。

  在碳化硅襯底領域,美國Cree幾乎壟斷了優質碳化硅襯底的全球供應,其次是德國SiCrystal、日本新日鐵、昭和電工、東纖-道康寧。我國企業實力較弱,國內能生產和加工碳化硅襯底的企業或機構有北京天科合達、山東天岳、山東大學、中科院物理所、中科院上海硅酸鹽所、中國電子科技集團46所等。2015年7月,山東天岳自主研制的一款4英寸高純半絕緣碳化硅襯底產品面世。

  用碳化硅做光電器件襯底主要挑戰是成本仍相對較高、技術門檻較高和專利技術不足,面臨著行業壟斷者的專利威脅。不過LED市場有高中低端之分,碳化硅襯底LED定位在高端。大功率LED市場需求巨大,碳化硅材料性能優越,具有功率大、能耗低、發光效率高等顯著優勢,可以很好滿足大功率LED需求。

  硅(Si)襯底

  硅片作為GaN 材料的襯底有許多優點,如晶體品質高,尺寸大,成本低,易加工,良好的導電性、導熱性和熱穩定性等。

  由于單晶硅材料生長技術成熟度高,容易獲得低成本、大尺寸(6-12 英寸)、高質量的襯底,可以大大降低LED 的造價。并且,由于硅單晶已經大規模應用于微電子領域,使用單晶硅襯底有望實現LED 芯片與集成電路的直接集成,有利于LED 器件的小型化發展。因此使用單晶硅作為LED 襯底一直是本行業夢寐以求的事情。此外,與藍寶石相比,單晶硅在性能上還有一些優勢:熱導率高、導電性好,可制備垂直結構,更適合大功率LED 制備。

  然而與藍寶石和SiC 相比,在Si 襯底上生長GaN 更為困難,主要體現在:(1)兩者之間的熱失配和晶格失配更大;(2)Si 與GaN 的熱膨脹系數差別也將導致GaN 膜出現龜裂;(3)晶格常數差會在GaN 外延層中造成高的位錯密度;(4)Si 襯底LED 還可能因為Si 與GaN 之間有0.5 V 的異質勢壘而使開啟電壓升高以及晶體完整性差造成p 型摻雜效率低,導致串聯電阻增大;(5)Si 吸收可見光會降低LED 的外量子效率。

  從1999年第一個GaN/Si LED出現,到2002 年商品化GaN/Si LED 就已經問世,但是由于性能與藍寶石及碳化硅制備的LED相差很大而沒有被廣泛應用。2010 年德國Azzurro 公司授權GaN-on-Si 技術予德國OSRAM公司。2013 年4 月日本東芝公司收購美國普瑞光電(Bridgelux) 的技術,并開始8 英寸GaN-on-Si 外延片生產。國內江西晶能光電公司早在2012 年就宣布批量生產HB-LED 芯片;江西晶瑞光電也已推出了類似性能的LED 產品。

  晶能光電的硅襯底技術,具有完全自主的知識產權,形成了藍寶石、碳化硅、硅襯底半導體照明技術路線三足鼎立的局面。中國LED產業只有打破國際巨頭的技術、專利壟斷,掌握核心技術,才能真正實現由“跟隨”到“跨越”的轉變。


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