基于PS球刻蝕技術制備納米孔濾波器結構的優化分析
上傳人:LEDth/整理 上傳時間: 2015-03-06 瀏覽次數: 16 |
作者 | 任良科/杜驚雷/李淑紅/張志友/侯宜棟/高福華/黃霞 |
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單位 | 四川大學物理科學與技術學院 |
分類號 | TN383.1 |
發表刊物 | 發光學報 |
發布時間 | 2013年4月 |
1引言
有機發光二極管(OLED)作為一種新型固態光源,具有高效、環保、安全、柔性和超薄等諸多優點,在平板顯示、照明、裝飾等方面展示出良好的應用前景。白光OLED 和彩色濾波器結合被認為是實現OLED 彩色顯示最有前景的方式。
傳統的彩色濾波器一般是通過添加不同顏色的染料或色素制造而成,光能經過彩色濾波器后,其強度會減弱很多,大大降低了其出光效率。而且這種濾光膜在紅光區域基本是全波段透射,使顯示色彩不夠鮮艷濃郁。因此,研發具有通帶窄、增益高的彩色濾波器是實現器件高質量顯示和高能量利用率的關鍵。亞波長金屬納米孔異常透射現象 的發現為新型彩色濾波器的設計提供了新的途徑。這種光與金屬表面電子相互作用產生的特殊現象已獲得廣泛的研究和應用。研究表明:通過改變金屬納米孔陣列的幾何參數,如孔徑、周期、薄膜厚度等,可以實現對不同波長輸出光的控制,特別適合用于OLED 中的彩色濾波裝置。
本文提出利用膠體晶體刻蝕與沉積技術制備銀納米孔陣列,發展了一種制備大面積彩色濾波器的簡單、方便方法,并針對OLED 彩色濾波器的實際需求,開展銀納米孔濾波器模擬優化設計。文中給出了銀納米孔陣列的透射波長、透射強度、透射譜半高全寬與結構參數的關系,并做了理論分析。
2納米孔濾波器的制備方法
制備納米孔陣列的方法已有很多,從規模生產的應用成本和方便性角度出發,本文試圖發展一種可用于大面積OLED 濾波器制備的膠體晶體刻蝕與真空沉積技術。制作金屬納米孔的方法如圖1(a)所示。
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