愛(ài)思強(qiáng)推出新型PRODOS-200 PVPDTM系統(tǒng)，致力發(fā)展用于沉積有機(jī)薄膜材料的新應(yīng)用。其創(chuàng)新的系統(tǒng)理念為研究聚合薄膜的新沉積工藝提供了研發(fā)平臺(tái)。此外，基于其經(jīng)過(guò)廣泛驗(yàn)證的近耦合噴淋頭®技術(shù)，其高沉積速率、優(yōu)良的沉積均一性和基板尺寸伸縮性，能保證設(shè)備便捷地切換至大規(guī)模生產(chǎn)工藝。

　　因此，這套系統(tǒng)可用于應(yīng)用前景廣泛的有機(jī)電子的新工藝開(kāi)發(fā)。(例如，新型柔性導(dǎo)電層;表面特性的控制;以及柔性阻擋層)，或改進(jìn)現(xiàn)有的工藝和結(jié)構(gòu)。

　　“我們將這套全新的PRODOS 系統(tǒng)發(fā)展為模塊化、可擴(kuò)展的平臺(tái)，適用于各種液態(tài)、氣態(tài)或固態(tài)形式原材料進(jìn)行生產(chǎn)。”愛(ài)思強(qiáng)業(yè)務(wù)發(fā)展總監(jiān)Jürgen Kreis 解釋說(shuō)，“因此，它是有機(jī)薄膜領(lǐng)域各種應(yīng)用的理想選擇，且由于其采用了模塊化設(shè)計(jì)，可以應(yīng)用到各種聚合工藝開(kāi)發(fā)之中。”

　　PRODOS-200 可用于實(shí)施多種PVPDTM 工藝，其中基于載氣的氣相沉積可在原處形成聚合薄膜，用于功能性聚合物薄膜層的形成。與通?；谌芤旱膫鹘y(tǒng)聚合工藝相比，PVPDTM 工藝是一種“全干燥工藝”，根據(jù)操作原理，溶劑不會(huì)產(chǎn)生任何副作用。

　　PRODOS-200 平臺(tái)可容納最大達(dá)200x200 mm²的基板，且可通過(guò)相關(guān)的半兼容接口集成入集群環(huán)境。因此，平臺(tái)可與OVPD® 研發(fā)系統(tǒng)等其他愛(ài)思強(qiáng)系統(tǒng)相兼容，集各種針對(duì)有機(jī)和無(wú)機(jī)薄膜的薄膜技術(shù)于一身，適用于復(fù)雜的工藝環(huán)境。因此，這套系統(tǒng)有助于為有機(jī)電子元件(OTFT, OPV, OLED)領(lǐng)域開(kāi)發(fā)和應(yīng)用新化合物。系統(tǒng)采用雙壁室結(jié)構(gòu)，不僅極大地方便了維修工作，且可根據(jù)其他工藝需要迅速進(jìn)行改造。

　　“愛(ài)思強(qiáng)PVPDTM 工藝具備眾多優(yōu)勢(shì)，是用于聚合物薄膜及其特性有助提高效率的新應(yīng)用的理想選擇。”愛(ài)思強(qiáng)首席運(yùn)營(yíng)官Bernd Schulte 博士表示，“我們的客戶已成功運(yùn)用這一工藝生產(chǎn)多種功能性層。聚合物擁有廣泛的應(yīng)用前景。未來(lái)我們將繼續(xù)與各合作伙伴密切合作，不斷改進(jìn)，使這一新技術(shù)平臺(tái)能滿足更多工藝需求。”