愛思強推出新型PRODOS-200 PVPDTM系統，致力發展用于沉積有機薄膜材料的新應用。其創新的系統理念為研究聚合薄膜的新沉積工藝提供了研發平臺。此外，基于其經過廣泛驗證的近耦合噴淋頭®技術，其高沉積速率、優良的沉積均一性和基板尺寸伸縮性，能保證設備便捷地切換至大規模生產工藝。

　　因此，這套系統可用于應用前景廣泛的有機電子的新工藝開發。(例如，新型柔性導電層;表面特性的控制;以及柔性阻擋層)，或改進現有的工藝和結構。

　　“我們將這套全新的PRODOS 系統發展為模塊化、可擴展的平臺，適用于各種液態、氣態或固態形式原材料進行生產。”愛思強業務發展總監Jürgen Kreis 解釋說，“因此，它是有機薄膜領域各種應用的理想選擇，且由于其采用了模塊化設計，可以應用到各種聚合工藝開發之中。”

　　PRODOS-200 可用于實施多種PVPDTM 工藝，其中基于載氣的氣相沉積可在原處形成聚合薄膜，用于功能性聚合物薄膜層的形成。與通常基于溶液的傳統聚合工藝相比，PVPDTM 工藝是一種“全干燥工藝”，根據操作原理，溶劑不會產生任何副作用。

　　PRODOS-200 平臺可容納最大達200x200 mm²的基板，且可通過相關的半兼容接口集成入集群環境。因此，平臺可與OVPD® 研發系統等其他愛思強系統相兼容，集各種針對有機和無機薄膜的薄膜技術于一身，適用于復雜的工藝環境。因此，這套系統有助于為有機電子元件(OTFT, OPV, OLED)領域開發和應用新化合物。系統采用雙壁室結構，不僅極大地方便了維修工作，且可根據其他工藝需要迅速進行改造。

　　“愛思強PVPDTM 工藝具備眾多優勢，是用于聚合物薄膜及其特性有助提高效率的新應用的理想選擇。”愛思強首席運營官Bernd Schulte 博士表示，“我們的客戶已成功運用這一工藝生產多種功能性層。聚合物擁有廣泛的應用前景。未來我們將繼續與各合作伙伴密切合作，不斷改進，使這一新技術平臺能滿足更多工藝需求。”