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覆晶結構封裝工藝、應用市場分析、將成技術主流?|微課實錄

2016-05-09 作者: 來源:阿拉丁新媒體 瀏覽量: 網友評論: 0

摘要: 首先我們來看高密度,要實現高密度光輸出,產品要滿足三個條件。這三個條件實際上是相互關聯的,因為大電流意味著高熱量。

  想更詳細了解芯片內部結構的對比,可直接百度。下面我詳細分析一下采用覆晶結構封裝的產品有什么特點。

  △這三個特點相信很多人都知道,但我們需要清楚它是如何實現的。

  首先我們來看高密度,要實現高密度光輸出,產品要滿足三個條件。這三個條件實際上是相互關聯的,因為大電流意味著高熱量。

  為什么覆晶結構封裝能承載大的電流呢?我們來對比分析下電路。

  這里我解釋下正裝芯片金屬薄膜層,由于P型GaN傳導性能不是太好,為獲得良好的電流擴展,通過蒸鍍技術在P區表面形成一層金屬電極層,再將P區引線通過該層金屬薄膜引出,正是因為這種結構,形成了正裝芯片在承載電流上的一個短板。

  大家都知道,電阻與導體橫載面積成反比例關系,橫載面積越大電阻越低,還與導體長度成正比例關系,導線越長電阻越大。

  從電路橫載面積上看,覆晶結構電極尺寸遠遠超過金線橫載面積,一般情況下相差60倍。當然土豪可以換成很粗的金線。

  從長度上看,由于金線鍵合工藝要求,金線必須是弧型,也無疑也增加了導線長度。晶片的結構及線路的大小已經初步確定了承載電流的大小。

  光源產品電路具體的電阻值與產品結構設計相關,所以無法提供具體參數,可以確定的是,這種相差是按乘法計算的,電路越多差別越大。

  大家也知道,電阻是要消耗功率的,消耗功率就會產生熱量,所以我們在設計線路時,盡可能降低其電阻,也不要有太多的尖角。

  接著講導熱的問題,還是和上面的一樣,我們先來對比分析下熱傳導的途徑。

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